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Brasil faz consulta sobre 2陋 parte de retalia莽茫o aos EUA

Caio Quero | 2010-03-15, 11:41

O Minist茅rio do Desenvolvimento, Ind煤stria e Com茅rcio Exterior iniciou nesta segunda-feira uma sobre medidas relativas 脿 suspens茫o de direitos de propriedade intelectual de empresas dos Estados Unidos que devem ser adotadas como parte da retalia莽茫o brasileira aos subs铆dios dados pelo governo americano aos produtores de algod茫o.

As medidas foram autorizadas pela Organiza莽茫o Mundial do Com茅rcio (OMC) e ser茫o um complemento 脿s sobretaxas que passar茫o a ser cobradas de 102 produtos importados dos Estados Unidos que foram anunciadas na semana passada.

Durante o prazo de consulta p煤blica, com dura莽茫o de 20 dias, cidad茫os e empresas brasileiras poder茫o fazer sugest玫es de que 谩reas e produtos devem ser afetados.

Na resolu莽茫o publicada no Di谩rio Oficial desta segunda-feira, o governo apresenta uma lista de medidas como proposta inicial.

Entre elas est谩 a redu莽茫o do prazo de patentes para medicamentos e softwares, al茅m da libera莽茫o para que filmes de produ莽茫o americana possam ser exibidos na televis茫o brasileira, sem custo.

Ao contr谩rio das san莽玫es na 谩rea de produtos, que tornam as importa莽玫es mais caras, a retalia莽茫o em propriedade intelectual tende a reduzir o pre莽o final ao consumidor, segundo o Minist茅rio.

O chefe do departamento econ么mico do Itamaraty, ministro Carlos M谩rcio Cozendey, disse que, no caso das retalia莽玫es em propriedade intelectual, os preju铆zos aos produtores americanos s茫o "maiores".

"Por isso esperamos que, com essas medidas, as empresas americanas nos ajudem, atuando junto ao Congresso americano, para que possamos chegar a um acordo que evite as retalia莽玫es", disse o diplomata.

A expectativa 茅 de que uma comitiva comercial dos Estados Unidos venha ao Brasil no in铆cio de abril discutir uma proposta de acordo, mas, segundo Cozendey, as medidas brasileiras "j谩 est茫o em vigor" e n茫o ser茫o alteradas em fun莽茫o da visita.

Ap贸s o prazo de consulta p煤blica, o governo brasileiro ter谩 de ajustar as propostas para que o total da retalia莽茫o em propriedade intelectual n茫o ultrapasse os US$ 238 milh玫es autorizados pela OMC.

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